FG捕鱼

Contitolari:

Universit脿 degli Studi di Padova

Inventori:

Dal Maschio Marco; Archetti Anna

Parole chiavi: Microscopia, ottiche piatte, generazione luce strutturata, reticolo 3D Bessel, fotonica

Numero priorita: IT102023000001299

Abstract:

L'invenzione riguarda un metodo per la formazione di un reticolo di fasci quasi-Bessel con un singolo elemento ottico, piatto e leggero. Questo sistema ottico si basa su una correzione spaziale della fase della luce per generare una serie di fasci di luce quasi non-diffrattivi.
Ogni fascio pu貌 essere prodotto con propriet脿 indipendenti dagli altri e in posizioni  arbitrarie.

Descrizione:

Le configurazioni attuali di generatori di BB presentano alcuni limiti superati dal metodo attuale, in grado di generare con un solo elemento ottico reticoli di fasci di Bessel secondo una geometria desiderata.
L鈥檌nvenzione presenta un fascio di onde piane in entrata e una superfice capace di modellare tale fascio per rendere un reticolo di fasci quasi-Bessel in uscita.
Inoltre, permette di produrre un numero di fasci indipendente dall鈥檃pertura numerica del singolo fascio. Infine, ogni fascio nel reticolo pu貌 essere generato con propriet脿 geometriche indipendenti (posizione focale e trasversale e larghezza longitudinale e trasversale).
La scoperta  apre nuove prospettive in applicazioni (e.g. lavorazione di materiali, telecomunicazioni) che richiedono l'uso di luce strutturata con fasci multipli con maggiore profondit脿 di fuoco e ridotta larghezza del fascio rispetto a soluzioni basate su ottiche convenzionali.
TRL 4

Vantaggi:

• Disaccoppiamento della profondit脿 di fuoco dall鈥檈stensione trasversale;
• Possibilit脿 di integrare di un unico elemento tutte le manipolazioni ottiche;
• Possibilit脿 di produrre un reticolo di fasci Bessel senza strutturazione n茅 mascherazione della luce in entrata.

Applicazioni:

• Sistemi per lo screening di farmaci ad alto contenuto e ad alta produttivit脿 in vivo;
• Selezionatori di particelle basati sulla luce;
• Sistemi di microscopia elettronica a scansione multibeam;
• Sistemi per litografia parallela;
• Sistemi di imaging a fluorescenza.